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4月16日消息，据可靠来源自苹果产业链内部透露，苹果公司现正着力研发一项革新性的抗反射光学涂层技术，旨在显著抑制镜头在拍摄过程中产生的炫光与鬼影效应，以此推动iPhone摄影作品的整体品质跃升至全新高度。
供应链消息称苹果正在考虑在 iPhone 相机镜头制造工艺中，引入新的原子层沉积（ALD）设备。
原子层沉积（Atomic layer deposition，ALD）是一种基于连续使用气相化学过程的薄膜沉积技术，将物质以单原子膜形式逐层镀在衬底表面的方法。ALD 是一种真正的纳米技术，以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积。
而具体到相机镜头方面，ALD 工艺主要用来喷涂抗反射涂层，这有助于减少摄影伪影。例如当太阳等强光源直接照射镜头时，最终拍摄的图像中可能出现条纹和光晕，而 ALD 可以减少这些图像失真现象。
此外，ALD 应用材料可以防止环境对相机镜头系统造成损害，同时又不会影响传感器有效捕捉光线的能力。
博文表示苹果计划将该工艺部署到 iPhone 的 Pro 机型中，可能会应用到 iPhone 16 Pro 系列或者明年的 iPhone 17 Pro 系列上。
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