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近日消息，英特尔公司宣布与日本产业技术综合研究所（AIST）携手合作，在日本共建先进的芯片研发基地。该项目预计在未来三至五年内完工，将装配最先进的极紫外线光刻（EUV）技术设备，这一举措无疑将加速全球半导体技术创新的步伐。
设备制造商和材料公司将付费使用该设施进行原型设计和测试。据介绍，这将是日本第一个行业成员能够共同使用极紫外光刻设备的中心。
查询获悉，产业技术综合研究所隶属经济产业省，是日本一家设法使用集成科学和工程知识来解决日本社会和经济发展需要的研究机构，总部位于东京，2001 年成为独立行政机构的一个新设计的法律机构。
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